标准编号：T/ICMTIA 5.3-2020
中文名称：集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法
英文名称：Lithography ArF Photo Resist of measurement for Intergraded circuits
发布日期：2020-12-31
实施日期：2021-03-01
批准发布部门：中关村集成电路材料产业技术创新联盟
起草人
许从应、毛智彪、马潇、顾大公、李珊珊
起草单位
宁波南大光电材料有限公司
T/ICMTIA 5.3-2020 集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法
立即下载标准文件大家都在看
- T/BAS 002-2020 团体标准综合评价规范
- T/ICMTIA 5.2-2020 集成电路用ArF浸没式光刻胶
- T/SNJYC 005-2020 神农架天麻炖鸡
- T/GDAQI 047-2020 智能物联网性能检测通用要求
- T/BAS 001-2020 标准化服务机构服务规范
- T/ICMTIA 5.1-2020 集成电路用 ArF 干式光刻胶
- T/BLTJBX 06-2020 电梯质量安全追溯体系建设指南
- T/GDAQI 046-2020 智能物联网安全检测通用要求
- T/ICMTIA 4.2-2020 集成电路用氟化氩光刻胶单体 第2部分：固体甲基丙烯酸酯类
- T/GDAQI 045-2020 特殊商品流通追溯系统检测通用要求