标准编号：GB/T 14849.4-2008
中文名称：工业硅化学分析方法 第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量
英文名称：Methods for chemical analysis of silicon metal - Part 4:Determination of elements content Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
发布日期：2008-06-09
实施日期：2008-12-01
归口单位：全国有色金属标准化技术委员会
批准发布部门：中国有色金属工业协会
起草人
李跃平、石磊、张树朝
起草单位
中国铝业股份有限公司郑州研究院、中国有色金属工业标准计量质量研究所等
标准范围
本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定方法。本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定。
立即下载标准文件