标准编号:XB/T 512-2020
中文名称:镝、铽金属靶材
发布日期:2020-12-09
实施日期:2021-04-01
批准发布部门:工业和信息化部
本标准适用于真空冶炼法制得的镝、铽金属靶材,主要用于制备钕铁硼磁控溅射镀膜等。