标准编号：SJ/T 10627-1995
中文名称：通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法
发布日期：1995-04-22
实施日期：1995-10-01
批准发布部门：电子工业部
SJ/T 10627-1995 通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法
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