标准编号：GB/T 47906-2026
中文名称：300mm硅片表面纳米形貌的评价方法
英文名称：Practice methods for nanotopography of 300 mm silicon wafer surface
发布日期：2026-07-02
实施日期：2027-02-01
提出单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
批准发布部门：国家标准委
起草人
朱晓彤、宁永铎、张海英、张婉婉、高冰、陈猛、朱培文、杨杰、刘云霞、陈仁彬、徐新华、顾广安、马砚忠、钟佑生
起草单位
山东有研艾斯半导体材料有限公司、西安奕斯伟材料科技股份有限公司、上海晶盟硅材料有限公司、上海超硅半导体股份有限公司、郑州合晶硅材料有限公司、扬帆半导体材料（江苏）有限公司、金瑞泓微电子（衢州）有限公司、杭州中欣晶圆半导体股份有限公司、浙江晶越半导体有限公司、深圳中科飞测科技股份有限公司、江苏神州半导体科技股份有限公司
标准范围
本文件描述了300mm硅片表面0.2mm~20mm空间波长范围内的纳米形貌（NT）评价方法。
本文件适用于硅抛光片、硅外延片、绝缘体上硅（SOI）片等300mm无图形硅片的评价。
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